在“国家队”宣布进场之后，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）也准备加快步伐，以打开中国市场。
周四（9月17日）最新消息显示，ASML全球副总裁沈波表示，作为全球半导体行业的合作伙伴，ASML将加快在中国市场的布局。
沈波表示，该公司将用领先的光刻技术，帮助芯片制造商提升性能并降低成本。他还指出，作为一家非常开放的公司，ASML未来将持续投入、扩大布局、培养人才，并与行业的伙伴联手，同中国半导体产业实现共同发展。
目前，该公司在华已有12个办公室，在北京和深圳拥有2个研发中心。
据悉，作为芯片生产最核心的设备，光刻机目前仍是我国芯片生产最大的制约因素。资料显示，7nm以上的芯片工艺，用DUV光刻机就可以生产，7nm以下的工艺，则需要用EUV（引入极紫外光）光刻技术，而ASML则是目前全球唯一一家能够生产EUV光刻机的企业。
关键时刻，为什么ASML要加速布局中国市场呢？要知道，光刻环节在芯片成本中占比高达30%，因此，ASML决定加速入局全球最大芯片消费市场——中国，并非没有原因。
而作为光刻机领域重磅级“选手”，ASML加速在华布局，对于中国光刻机的发展，可能也将带来促进作用。事实上，中国也有光刻机，但是技术与ASML的差距仍比较大。虽然2018年底国内在22nm光刻机的光源上取得了突破，但是要想比肩ASML，可能还有很长的路要走。
不过，本周三（9月16日）中国科学院院长白春礼表示，该院将把光刻机、航空轮胎和轴承钢等对外依赖较大的关键材料或设备列入科研清单，未来将集中力量攻克这些重点技术。在“国家队”和ASML先后跑步进场的情况下，国产光刻机能否尽快迎来“高光时刻”呢？我们拭目以待。
